本篇文章给大家谈谈说实话，没有EUV光刻机，中芯国际，就几乎追不上台积电对应的知识点，希望对各位有所帮助，不要忘了收藏本站喔。
作为中国大陆最强的说实上台芯片代工企业，大家都希望中芯国际能够追上，话没甚至超过台积电，光刻成为全球芯片代工一哥，机中际乎积电那么中国芯片产业就真正崛起，芯国再也不担忧禁令，说实上台不用害怕被卡脖子了。话没
而很多人也认为，光刻虽然现在中芯国际落后台积电还太远，机中际乎积电但只要努力突破，芯国坚定的说实上台发展，那么追上台积电是话没必然的。
当然，有这个想法，机中际乎积电有这个信心当然是芯国好的，但我觉得，有一个前提，那就是EUV光刻机必须要有，不管是自研，还是找别人买都行，如果没有EUV光刻机，中芯国际是很难追得上台积电的。
目前芯片大规模制造，均是基于光刻方案，所以光刻机是必不可少的。
虽然有NIL方案，还有什么BEL方案，又有DSA方案，但这些都暂时无法实现大规模芯片制造，只有光刻才行。
光刻方案下，光刻机与芯片工艺是对应的。
目前制造7nm以下的芯片，也就是像5nm、3nm、2nm的芯片，都必须使用到EUV，还没有使用浸润式DUV光刻机，制造出5nm芯片的先例。
理论上浸润式DUV光刻机，能制造5nm芯片，但是这只是理论，实际上会受到良率、效率、成本等问题的影响，用浸润式DUV光刻机，就没法低成本的制造商用型的大规模芯片。
所以，情况就很明显了，如果没有EUV，中芯国际也很难大规模的量产5nm及以下的芯片。
而台积电2025年四季度的收入中，3nm工艺占到28%；5nm占比为35%；7nm的占比为14%，也就是说5nm及以下工艺占比达到了63%，这63%的收入，都与EUV有关。
假如我们没有EUV，就靠着浸润式DUV，能够在技术上达到台积电的水平，然后在收入上也追上来？想想也不可能吧。
所以啊，我们盼望中芯国际追上台积电是没问题的，觉得中芯国际会追上甚至超过台积电也是没有问题的，但要实现这个目标的前提，还是国产光刻机要突破。
坦白讲，只要国产EUV突破不了，我们自己没有EUV，就几乎不太可能追得上，你觉得叫？